2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19a-N304-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304)

石川 善恵(産総研)、欠端 雅之(産総研)

09:30 〜 09:45

[19a-N304-3] ArFレーザーを用いたシリコーンゴム表面への微細隆起構造の作製

横山 岬1、吉田 剛1、松木 伸行2、大越 昌幸1 (1.防衛大電気電子、2.神大工)

キーワード:ArFエキシマレーザー、シリコーンゴム

これまで我々は,波長193 nm のArFエキシマレーザーを用いたシリコーンゴム表面の光化学的改質により, その表面に超撥水性を発現する微細隆起構造を作製可能であることを報告した。撥水性は隆起構造の形状や高さに影響され、高さや形状の最適化により撥水性の制御が可能になると期待される。本研究では,隆起構造の高さがレーザー照射条件の一つであるパルス繰り返し周波数により変化することを見出したので報告する。