2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[19a-PA1-1~14] 1.4 エネルギー変換・貯蔵・資源・環境

2019年9月19日(木) 09:30 〜 11:30 PA1 (第一体育館)

09:30 〜 11:30

[19a-PA1-10] Mg2Siの低温合成メカニズムに関する一考察

安田 仁1、樋口 昌史1、Wunderlich Wilfried1、淺香 隆1、〇佐藤 正志1 (1.東海大学工)

キーワード:シリサイド

MgとSiの混合粉末を水素雰囲気下に静置すると、600 K付近の低温下でさえMg2Siが形成される。これはMgへの水素吸収・放出からなる2つの反応が起こる極めて特殊な反応系である。反応機構として、水素が清浄表面に近い表面の形成を促して、SiへのMgの侵入・拡散が生じていると考えた。反応モデルを検証するため、適切なゲッターにより酸化物層から酸素を脱離・酸化物の除去をし、反応が進行するかを検証した。