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[19a-PA1-10] Mg2Siの低温合成メカニズムに関する一考察
キーワード:シリサイド
MgとSiの混合粉末を水素雰囲気下に静置すると、600 K付近の低温下でさえMg2Siが形成される。これはMgへの水素吸収・放出からなる2つの反応が起こる極めて特殊な反応系である。反応機構として、水素が清浄表面に近い表面の形成を促して、SiへのMgの侵入・拡散が生じていると考えた。反応モデルを検証するため、適切なゲッターにより酸化物層から酸素を脱離・酸化物の除去をし、反応が進行するかを検証した。