2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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[19a-PB3-1~25] 13.8 光物性・発光デバイス

2019年9月19日(木) 09:30 〜 11:30 PB3 (第二体育館)

09:30 〜 11:30

[19a-PB3-8] リン(P)ドーピングした鉄シリサイドのPL発光特性

秋山 賢輔1,2、野島 咲子1、高橋 亮1、舟窪 浩2 (1.神奈川産技総研、2.東工大物質理工)

キーワード:鉄シリサイド、フォトルミネッセンス

シリサイド半導体の一つである鉄シリサイド半導体(β-FeSi2)において、我々は窒素(N)をドーピングすることでPL発光強度の温度消光特性が改善し、290Kまでの発光を報告した。このNドーピングの効果は、電気陰性度の大きさに起因すると考えられる、本発表では、有機金属気相成長(MOCVD)法で合成したβ-FeSi2において、PをドーピングすることでPL発光の温度消光特性が改善されPL発光強度の増大化が観察されることを報告する。