2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[19a-PB5-1~19] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2019年9月19日(木) 09:30 〜 11:30 PB5 (第二体育館)

09:30 〜 11:30

[19a-PB5-18] 有機金属気相エピタキシー成長中におけるGaN(0001)表面のステップ端での吸着・脱離の挙動に関する理論的検討

相可 拓巳1、秋山 亨1、プラディプト アブドルムィッツ1、中村 浩次1、伊藤 智徳1 (1.三重大院工)

キーワード:ステップフロー成長、エーリッヒ・シュワーベルバリアー、吸着・脱離

MOVPE 成長を想定した場合でのステップ端を含むGaN(0001)表面におけるGa およびN 原子の吸着・脱離およびマイグレーションの挙動を明らかにし、ESB とステップフロー成長との関係性を検討する。