2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

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[19p-B01-1~6] パワーエレクトロニクスと薄膜・表面技術〜省エネルギー社会に向けて〜

2019年9月19日(木) 13:30 〜 16:45 B01 (オープンホール)

山田 貴壽(産総研)、田畑 仁(東大)

15:45 〜 16:15

[19p-B01-5] SiCパワーデバイスを支える薄膜・表面技術

木本 恒暢1 (1.京大工)

キーワード:パワーデバイス、SiC

SiCは次世代の高耐圧・低損失パワー半導体として注目され、SiCパワーMOSFETとショットキー障壁ダイオードの量産が始まった。本報告では、SiCパワー半導体のエピタキシャル成長と酸化膜形成に注目し、その基礎技術、物理的理解、および今後の課題について概説する。