15:45 〜 16:15
[19p-B01-5] SiCパワーデバイスを支える薄膜・表面技術
キーワード:パワーデバイス、SiC
SiCは次世代の高耐圧・低損失パワー半導体として注目され、SiCパワーMOSFETとショットキー障壁ダイオードの量産が始まった。本報告では、SiCパワー半導体のエピタキシャル成長と酸化膜形成に注目し、その基礎技術、物理的理解、および今後の課題について概説する。
シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム(technical) » パワーエレクトロニクスと薄膜・表面技術〜省エネルギー社会に向けて〜
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キーワード:パワーデバイス、SiC