2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム(technical) » 界面ナノ電子化学『多様化する半導体ウェットプロセス』

[19p-B11-1~8] 界面ナノ電子化学『多様化する半導体ウェットプロセス』

2019年9月19日(木) 13:30 〜 17:00 B11 (B11)

真田 俊之(静大)、吉水 康人(東芝メモリ)

15:15 〜 15:45

[19p-B11-5] 多様化する電子デバイスの物理洗浄
~スプレー洗浄の有用性とその課題~

清家 善之1 (1.愛知工大)

キーワード:電子デバイス、物理洗浄、スプレー

半導体デバイス、MEMS、フラットパネルディスプレー(FPD)の製造において、ウエットプロセスの洗浄工程は多く存在する。本報告では、各種のスプレー式洗浄の特徴を明確にし、実際にポリスチレンラテックス粒子(PSL粒子)を塗布したサンプル基板を用いて、それらの洗浄性を実験によって確認した。