[19p-B11-1~8] 界面ナノ電子化学『多様化する半導体ウェットプロセス』

[19p-B11-8] 貴金属触媒を用いた湿式Si-TSV形成におけるエッチング溶液濃度の検討

〇依岡 拓也¹、花谷 俊輔¹、伊藤 健¹、清水 智弘¹、新宮原 正三¹ (1.関大シス理)

キーワード：ウェットエッチング、シリコン