[19p-E304-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[19p-E304-4] ミニマルファブにおける0.5μmデザインルール実現に向けたレジストパター二ングの予備検討

〇佐藤 和重^1,3、古賀 和博¹、野田 周一^1,2、クンプアン ソマワン^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.坂口電熱)

キーワード：ミニマルファブ

ミニマルファブにおける0.5μmデザインルール実現に向け、既存のミニマルファブのホトリソグラフィー技術でレイアウト0.5μmのViaが形成できるか検討した。今回、露光装置の露光量を変えることによりレイアウト0.5μmのViaを光学顕微鏡で観察した結果、開口していることを確認した。