2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-E310-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月19日(木) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

荒木 努(立命館大)、片山 竜二(阪大)、石井 良太(京大)

17:30 〜 17:45

[19p-E310-15] 2層極性反転積層AlN導波路を用いた深紫外第二高調波発生デバイスの設計

山内 あさひ1、小松 天太1、池田 和久1、上杉 謙二郎2、正直 花奈子2、三宅 秀人2、彦坂 年輝3、布上 真也3、森川 隆哉1、藤原 康文1、上向井 正裕1、谷川 智之1、片山 竜二1 (1.大阪院工、2.三重院工、3.㈱東芝)

キーワード:非線形光学デバイス

我々は新規構造デバイスとして、AlNの極性を反転して3層積層した横型擬似位相整合( QPM) 構造を有する導波路第二高調波発生( SHG) デバイスを提案してきた。また本研究室では作製が容易な波長400 nm帯2層極性反転積層AlN導波路SHGデバイスを作製し、青色SHGの評価の実証に成功した。本研究では、現時点で作製可能な深紫外光発生2層極性反転積層AlN導波路SHGデバイスの設計を行ったので報告する。