[19p-E310-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-E310-17] 高濃度Si添加半極性面GaN(2021)薄膜の作製と評価

〇森川 創一朗¹、上野 耕平¹、小林 篤¹、藤岡 洋^1,2 (1.東大生研、2.JST-ACCEL)

キーワード：窒化ガリウム