The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[19p-E311-1~14] 6.3 Oxide electronics

Thu. Sep 19, 2019 1:15 PM - 5:00 PM E311 (E311)

Hisashi Shima(AIST), Tohru Tsuruoka(NIMS)

1:45 PM - 2:00 PM

[19p-E311-3] The Electrochemical impedance analysis of electrochemical parameter changes with CBRAM resistive switching

Shotaro Kawanami1, Akito Igarashi1, Kentaro Kinoshita1 (1.Tokyo Univ. of Sci.)

Keywords:CB-RAM, Resistive random access memory, Electrochemical impedance spectroscopy method

我々は以前, 電気化学インピーダンス法(EIS法)を用いて, CBRAMの各電気化学パラメータの面積依存を詳細に調べる事で, パラメータの素子内分布を明らかに出来ることを示した. しかし, 先の報告は初期状態(IRS)におけるものであったため, 本研究では抵抗変化前後における電気化学パラメータの素子内分布の変化を調査した. 結果として, EIS法によるRct, Cdlの面積依存性評価を通じて RSに伴う, 金属架橋の縦(gap間隔), 横(太さ) 両方向への成長や減退の様子を把握する事が可能である事が示された.