[19p-PA2-1~9] 3.7 レーザープロセシング

△ [19p-PA2-6] グリオキシル酸Cu/Ni混合錯体のフレキシブル基板上でのフェムト秒レーザ還元描画特性

〇成島 淳也¹、今北 智之¹、植月 暁²、大石 知司²、溝尻 瑞枝¹ (1.長岡技科大、2.芝浦工大)

キーワード：直接描画、還元、フレキシブル基板

グリオキシル酸Cu（GACu）及びNi（GANi）錯体還元において，熱拡散の抑制が期待できるフェムト秒レーザ光熱還元を利用し，低耐熱性基板上での描画特性を評価した．GACu，GANi，GACu/Ni（Cu:Ni=1:1）混合錯体の3種類を波長515 nmのフェムト秒レーザパルスで描画したところ，線幅はCuよりもNiの方が大きくなり，Cu-Niはその中間となった．これはCuがNiより還元析出しやすいため，低パルスエネルギーで熱拡散の影響が抑制されたためであると考えられる．