[20a-C309-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

[20a-C309-12] 陽極酸化アルミナマスクを用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製・評価

〇小澤 慶太¹、勝俣 真綸¹、重松 圭^1,2、東 正樹^1,2 (1.東工大フロンティア材料研、2.KISTEC)

キーワード：ビスマスフェライト、マルチフェロイック、微細加工

強誘電・弱強磁性体であるBiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜は電場印加磁化反転が観測されており、省電力磁気メモリとしての応用が期待される。本研究では、BiFe_0.9Co_0.1O₃の強誘電・強磁性ドメインを単一化するために、陽極酸化ポーラスアルミナのマスクを用いたナノドットの製作を行った。実験では、陽極酸化によって約65 nmの孔径を持つマスクの作製に成功した。さらに、マスクを転写した基板への成膜によって直径約60 nmのBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製に成功した。