[20a-C310-1~12] 6.4 薄膜新材料

[20a-C310-4] 超高真空オーロラPLD法によるMn₃CuN薄膜の成長

〇川口 昂彦¹、鈴木 淳平¹、坂元 尚紀¹、鈴木 久男¹、脇谷 尚樹¹ (1.静大院工)

キーワード：エピタキシャル薄膜、PLD、逆ペロブスカイト

我々はこれまでに、オーロラPLD法を用いることで、Mn₃CuN薄膜のエピタキシャル成長に成功している。しかし、これまでに得られた薄膜では酸化物相も共存しており単相薄膜ではなかった。これは、成膜チャンバ中の残留酸素が原因であると考えられる。そこで今回、超高真空オーロラPLD装置を構築することで、Mn₃CuN単相薄膜の作製を試みた。当日は、これらの結果について議論する予定である。