2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-E307-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2019年9月20日(金) 10:00 〜 11:45 E307 (E307)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)

10:00 〜 10:15

[20a-E307-1] EUV化学増幅型レジストにおける感度向上へのメタル増感剤の役割

山本 洋揮1、Vesters Yannick2,3、Jiang Jing2、de Simone Danilo2、Vandenberghe Geert2、古澤 孝弘4 (1.量研高崎、2.IMEC、3.KU Leuven、4.阪大産研)

キーワード:EUV、化学増幅型レジスト、メタル増感剤

最近、EUVレジストにメタル増感剤という分子を添加して高感度化を達成する研究が注目されている。しかしながら、メタル増感剤は高解像度かつ高感度を示すことが既に報告されているがその反応機構の詳細は不明である。本研究では、メタル増感剤の添加あるなしでのEUVレジストの酸収率および溶解特性を調べることでメタル増感剤による高感度化機構を明らかにすることを試みた。