2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20a-E312-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2019年9月20日(金) 09:15 〜 12:00 E312 (E312)

井村 将隆(物材機構)

09:45 〜 10:00

[20a-E312-3] 200 nmの絶縁膜Al2O3を有する2DHGダイヤモンドMOSFETsの
高周波出力特性@VDS = −70 V

〇(B)鈴木 優紀子1、久樂 顕1、今西 祥一朗1、堀川 清貴1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)

キーワード:ダイヤモンド、MOSFET、高周波

FETの高周波出力電力は高電圧印加によって電圧スイング幅が広がることで向上する。我々は高耐圧構造の2DHGダイヤモンドMOSFETsを作製し、VDS =−50 Vにおいてp-FETで最高となる出力電力Pout=3.8 W/mmを達成した。本研究では更なる高耐圧化のためにLGDを大きくし、絶縁膜を厚くすることで、ダイヤモンドFETsで初となるVDS= −70 Vにおける大信号特性評価を行った。