The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[20a-E314-1~8] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

Fri. Sep 20, 2019 9:15 AM - 11:30 AM E314 (E314)

Koji Arafune(Univ. of Hyogo)

10:00 AM - 10:15 AM

[20a-E314-4] Discrimination between random and Σ3n grain boundaries in multicrystalline silicon using quaternion expression

Takuto Kojima1, Kazuya Tajima2, Tetsuya Matsumoto1, Hiroaki Kudo1, Noritaka Usami2 (1.Nagoya Univ. Info., 2.Nagoyoa Univ. Eng.)

Keywords:multicrystalline silicon, EBSD, CSL grain boundary

HP多結晶シリコン基板中の三重点近傍の転位クラスター発生源となった粒界に隣接した結晶粒の方位関係を四元数計算を用いてΣ3n回転操作に帰着した.帰着されたΣ3n回転操作は高次であり,EBSDの測定精度と結晶歪を考慮した許容誤差中には複数の候補が存在した.高次のΣ3n回転操作の方位差分布を理論的なランダム方位分布と比較し,方位差最小のみからランダム粒界と高次のΣ3n粒界を識別することが困難であることを示した.