The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-PA4-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Sep 20, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PA4 (PA)

9:30 AM - 11:30 AM

[20a-PA4-12] Effect of Microwave Excited Hydrogen and Ammonia Gas Mixture Plasma on Hydrogenation of Sodium Metaborate

Naoki Maeda1, Akihisa Ogino1 (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:microwave excited plasma, sodium metaborate, hydrogenation

水素を低コストで効率よく輸送、貯蔵する水素キャリアとして水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)が注目されている。本研究はNaBH4による水素生成過程において生ずるメタホウ酸ナトリウム(NaBO2)をプラズマ処理し、NaBH4に再生することを目的とする。NaBO2に水素-アンモニア(H2-NH3)混合ガスプラズマをNaBO2に照射したときの原子組成や化学結合状態への影響について報告する。