The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-PA4-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Sep 20, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PA4 (PA)

9:30 AM - 11:30 AM

[20a-PA4-13] Measurement of Negative Ion Signal in a Discharge between Carbon Electrodes by Laser Photodetachment

Yuito Ikeda1, Nobuteru Tsubouchi2, Motoi Wada1 (1.Doshisha Univ., 2.AIST kansai center)

Keywords:Plasma deposition, Negative ion, Laser photodetachment

プラズマを用いた炭素薄膜生成において,プラズマ中の炭素負イオンは生成薄膜の物性に影響を与えると考えられる.本研究では,アルゴンガス中の炭素電極間放電により炭素含有プラズマを生成し,プラズマ中の負イオン密度を半導体レーザーによる光脱離反応を用いて測定している.形成された炭素薄膜については走査電子顕微鏡(SEM)およびX線回折(XRD)によって調査する.