[20a-PA5-1~2] 8.3 Plasma nanotechnology

[20a-PA5-1] Influences of Substrate Surface Morphology on Isolated Nano-columnar Structures Synthesized by Glancing-angle Sputtering

〇Masahiro Homma¹, Masashi Hosoya¹, Yasushi Inoue¹, Osamu Takai² (1.Chiba Inst. Technol., 2.Kanto Gakuin Univ.)

Keywords:Glancing-angle Sputtering, Isolated Nano-columnar Structures, Indium Nitride

斜入射堆積法で自己遮蔽効果によって離散的柱状構造を形成することができる事が知られていて，もし初めから基板上に凹凸があった場合，自己遮蔽効果が成膜初期段階から確立するため空隙間隔などの形状因子を制御できることが期待される．そこで本研究では，凹凸を作製した基板上に，斜入射スパッタリング法を用いてInN薄膜を成膜し，離散的柱状構造に対する基板凹凸の影響を調査することを目的とする．