[20p-B11-1~12] 8.1 プラズマ生成・診断

[20p-B11-3] 磁気フィルタ付反射電界型エネルギー分析器による負イオン計測

〇松田 良信¹、石場 将希¹、安元 秀¹、古里 友宏¹、山下 敬彦¹ (1.長崎大院工)

キーワード：反射電界型エネルギー分析器、イオンエネルギー分布、マグネトロンスパッタリング

金属添加ZnOターゲットのスパッタ成膜における基板入射イオンエネルギー分布を把握するために、磁気フィルター付きマルチグリッド反射電界型エネルギー分析器（RFEA）を開発し，その基本動作特性を調査した．DCマグネトロン放電において，ターゲットへのDC印加電圧に相当する高エネルギーの負イオンが基板に入射することを確認した．