[20p-E202-1~17] 12.1 作製・構造制御

△ [20p-E202-2] 真空蒸着PTCDI-C8薄膜における巨大グレイン成長のその場GIXD測定

〇高川 佑輔¹、丸山 伸伍¹、小金澤 智之²、宮寺 哲彦³、松本 裕司¹ (1.東北大院工、2.高輝度光科学研セ、3.産総研)

キーワード：有機半導体、薄膜、液晶

我々はN,N’-Dioctyl-3,4,9,10-perylenedicarboximide(PTCDI-C8)の真空蒸着膜において170 ℃～210℃の基板温度範囲で結晶グレインが数100 μmサイズに大きく成長することを見出した．示差走査熱量測定(DSC)との比較により，グレインの成長は液晶相からの結晶化であることが示唆されたが，詳しい成長過程は分かっていなかった．そこで今回，製膜中に微小角入射X線回折(GIXD)測定を行うことでグレイン成長過程を詳細に調べたので報告する．