[20p-E203-7~19] 3.5 レーザー装置・材料

[20p-E203-14] 高ピークパワーハイブリッドArFエキシマレーザの開発

〇五十嵐 裕紀¹、田丸 裕基¹、曲 晨¹、上場 康弘¹、淵向 篤¹、村上 嘉彦¹、三浦 泰祐¹、藤本 准一¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン(株))

キーワード：エキシマレーザ、波長変換、深紫外 (DUV)

シード光として固体レーザを利用した、ハイブリッドArFエキシマレーザの開発を行っている。ハイブリッドArFレーザは、高フォトンエネルギー、高空間コヒーレンス、高パルスエネルギーという特徴をもつことから、超微細加工や難加工材料の加工などの応用にむけて有望な光源である。固体シード光を短パルス化することで、最大ピークパワー7MW以上のハイブリッドArFエキシマレーザ光源を開発したので報告する。