2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[20p-E304-1~13] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年9月20日(金) 13:45 〜 17:15 E304 (E304)

篠崎 健二(産総研)、後藤 民浩(群馬大)、中岡 俊裕(上智大)

15:15 〜 15:30

[20p-E304-6] アモルファス炭化ホウ素の電子線動径分布解析

西隈 光右1、石丸 学1、仲村 龍介2 (1.九州工大、2.大阪府大)

キーワード:炭化ホウ素、電子線動径分布解析

本研究では、透過電子顕微鏡によりアモルファス炭化ホウ素の電子線動径分布解析を行った。電子回折強度の定量解析により散乱ベクトルが約20Åまでの還元干渉関数を得ることができた。還元干渉関数をフーリエ変換することにより得られた動径分布関数にはB-B結合によるピークに加え、1.4~1.6Åの範囲に小さな肩が観察された。この肩は結晶炭化ホウ素の構造モデルから二十面体の原子配置によって解釈できることが示された。