2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20p-E313-1~17] 1.5 計測技術・計測標準

2019年9月20日(金) 13:15 〜 17:45 E313 (E313)

寺崎 正(産総研)

17:30 〜 17:45

[20p-E313-17] ポリジメチルシロキサンの光イオン化計測

鈴木 淳1、永井 秀和1 (1.産総研分析計測標準)

キーワード:光イオン化、質量分析、高分子

ジメチルポリシロキサン(Dimethylpolysiloxane, DMPS)の355 nm光イオン化質量分析を行った。TOFから求められる質量電荷比と、DMPSの構造式からの推測から、CHx、O、C2Hy、Siによる質量ピークを観測した。一方DMPSは高分子であるにもかかわらず、上記よりも大きい質量をもつピークは計測されなかった。これにより本実験の測定条件では355 nmによる光イオン化での単量体分子の解離が促進され、分子のソフトイオン化が阻害されることがわかった。