[20p-E314-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

[20p-E314-10] Texture基板におけるa-SiO_x:H薄膜パッシベーション性能

〇斉藤 公彦¹、高村 司²、市川 幸美²、小長井 誠² (1.福島大共生システム、2.東京都市大総研)

キーワード：太陽電池、ヘテロ接合

a-SiO_x:H膜をパッシベーション層に用いたRib構造ヘテロ接合太陽電池の開発を行っている。今回texture基板におけるパッシベーション性能の改善について検討を行った。