[20p-N304-1~10] アトミックレイヤープロセスの最新動向

[20p-N304-4] 室温原子層堆積法の開発とガスバリア応用

鹿又 健作²、三浦 正範²、〇廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工、2.山形大学有機システム)

キーワード：原子層堆積法、室温、ガスバリア

本講演では室温原子層堆積法の開発とガスバリア応用について紹介する。開発研究においては、熱型原子層堆積法の表面反応基礎過程の評価結果をもとに、低温での律速反応について説明しし、それを促進するためのプラズマシステムの開発が主たる内容となる。実際の開発膜種であるSiO₂とAl₂O₃を事例に主たる実験結果について説明する。応用としてガスバリア評価事例も紹介する。