[20p-PB2-1~18] 7 ビーム応用（ポスター）

[20p-PB2-3] 電子ビーム照射下におけるシリカガラスの構造変化解析

〇多田 和広¹、日比 彗太¹、安田 雅昭² (1.富山高専、2.阪府大院工)

キーワード：ナノドット、シリカガラス、分子動力学

ガラス，シリコン，樹脂などの様々な対象から加工することで得られるシリコンナノドットは，工学分野，分析化学分野，生命科学・医療分野など様々な分野において応用が期待されている．シリコンナノドットを作製する手法として，基材としてシリカガラスを用いて，電子ビームを照射することで酸素が叩き出され，純度の高いシリコンナノドットを形成するものがある．このプロセスにおいて，シリカガラスの表面を観察する技術は確立されているが，材料内部の構造変化に対する形成過程の観察技術は十分ではなく，ナノドットの形成過程は未だに解明されていない．本研究では電子ビーム照射過程を行うためのプログラムを組み込んだ分子動力学(MD)法を用いて，電子ビーム照射下のシリカガラス内にシリコンナノドットが形成されるメカニズムの解明を目的とする．