[21a-PA2-1~31] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-PA2-10] 超高圧下におけるα-Al₂O₃単結晶基板と圧媒体中に含まれる水の表面反応

〇(D)笹原 悠輝¹、金谷 航葵¹、松久 将之¹、和田 雄二¹、清水 亮太^1,2、西山 宣正³、一杉 太郎¹ (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.東工大フロンティア)

キーワード：超高圧、エピタキシャル成長、表面反応

超高圧下でのみ存在可能な物質の常圧回収に向け、薄膜試料に超高圧印加する試みを始めた。その結果、高圧相α-PbO₂型TiO₂の単相エピタキシャル薄膜を作製できたが、Al₂O₃基板と水の副反応により平坦な薄膜は得られなかった。そこで本研究では、超高圧下におけるAl₂O₃基板と水の反応を調べるために薄膜未堆積の基板に超高圧処理したところ、特異な表面構造を有したAlO(OH)微結晶の生成を見出した。