[21a-PA2-1~31] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-PA2-4] NiFe/IrO₂界面における電流-スピン流変換効率

〇(M1)森内 直輝¹、福島 健太¹、木田 孝則²、萩原 政幸²、上田 浩平¹、松野 丈夫¹ (1.阪大理、2.阪大先端強磁場)

キーワード：界面、酸化物

スピントロニクスでは電流からスピン流への変換効率が高い非磁性金属が必要となることから、候補として特異な電子構造を持つ5d遷移金属酸化物IrO₂に着目した。スパッタ法を用いて強磁性体NiFe合金/非磁性金属IrO₂ならびに参照試料Ni₈₁Fe₁₉/Ptを作製し、スピン流が誘起する磁化の変化を評価するために二倍波ホール抵抗を測定した。電流-スピン流変換効率やスピン流から生じる有効磁場に関して報告する。