2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21a-PA2-1~31] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年9月21日(土) 09:30 〜 11:30 PA2 (第一体育館)

09:30 〜 11:30

[21a-PA2-6] YbFe2O4エピタキシャル薄膜の組成制御と電気・磁気・光学特性におよぼす影響

〇(M2)田中 淳平1、三浦 光平1、桐谷 乃輔1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工)

キーワード:強相関電子系、RFe2O4、パルスレーザー堆積法

RFe2O4(R:希土類元素)は、結晶内に同数のFe2+とFe3+が三角格子状に存在しているため電荷のフラストレーションが生じ、電子密度に極性を有する電子強誘電体である 。加えて、~250K以下でフェリ磁性と強誘電性が共存することや、赤外域における高い光吸収係数を有し、基礎・応用両面から注目されている。しかし、YbFe2O4はFeイオンの欠損を許容しやすいことから、単層の単結晶試料であるにもかかわらず20%程度もFe欠損した結晶が形成すると報告されている。本発表では、化学量論組成近傍のエピタキシャル薄膜作製法について議論する。