2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[21p-B31-1~14] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2019年9月21日(土) 12:45 〜 16:30 B31 (B31)

川原村 敏幸(高知工科大)、池之上 卓己(京大)

12:45 〜 13:00

[21p-B31-1] 塩化物系ガリウム希薄水溶液によるα型酸化ガリウム薄膜のミストCVD成長(II)

宇野 和行1、松本 一寿1、田中 一郎1 (1.和歌山大システム工)

キーワード:酸化ガリウム、ミストCVD

α型酸化ガリウムのミストCVD成長において,原料水溶液のpHと成長速度の関係を調べた。