14:45 〜 15:00 [12p-M111-6] 超高温RTPによるSiウェーハの酸素析出制御 〇須藤 治生1,2、前田 進1、中村 浩三3、末岡 浩治4 (1.グローバルウェーハズ・ジャパン、2.岡山県大院情報系工、3.岡山県大地域共同研究機構、4.岡山県大情報工)