14:00 〜 14:15 [11p-W833-4] 1-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性 〇入山 拓未1、金 蓮花1、近藤 英一1、ジェローズ ベルナール2 (1.山梨大工、2.名古屋大工)