17:30 〜 17:45 [11p-W834-15] イオンビーム合成法で作製したβ-FeSi2膜中の空孔型欠陥評価 〇薮内 敦1、唐津 拓弥1、木野村 淳1、前川 雅樹2、河裾 厚男2 (1.京大複合研、2.量研機構)