一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:00 〜 09:15
〇林 家弘1、湯田 洋平2、ワン マンホイ1、佐藤 万由子3、竹川 直3、小西 敬太3、綿引 達郎2、山向 幹雄2、村上 尚3、熊谷 義直3、東脇 正高1 (1.情通機構、2.三菱電機（株）、3.東京農工大院工)
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09:15 〜 09:30
〇ManHoi Wong1、Ken Goto2,3、Hisashi Murakami2、Yoshinao Kumagai2、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Tokyo Univ. Agricul. Technol.、3.Tamura Corp.)
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09:30 〜 09:45
〇ManHoi Wong1、Ken Goto2,3、Hisashi Murakami2、Yoshinao Kumagai2、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Tokyo Univ. Agricul. Technol.、3.Tamura Corp.)
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09:45 〜 10:00
〇上村 崇史1、中田 義昭1、ワン マンホイ1、タン ホング フック1、東脇 正高1 (1.情通機構)
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10:00 〜 10:15
〇QIN MAO1、Eiki Suzuki1、Atsushi Tamura1、Koji Kita1 (1.The Univ. of Tokyo)
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10:30 〜 10:45
〇有馬 潤1、平林 潤1、藤田 実1、井ノ口 大輔1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、山腰 茂伸3、福光 由章1 (1.TDK、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.タムラ製作所)
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10:45 〜 11:00
石松 裕真1、大石 敏之1、鴨川 拓弥1、サハ ニロイ チャンドラ1、金 聖祐2、〇嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.アダマンド並木精密宝石)
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11:00 〜 11:15
〇梁 剣波1、神田 進司1、桝谷 聡士2、嘉数 誠2、重川 直輝1 (1.大阪市大院工、2.佐賀大院工)
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11:15 〜 11:30
〇岡本 研正1、細川 正美2、松下 文夫2、中野 逸夫3 (1.香川大、2.光半導体デバイス技研、3.岡山大)
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