一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇平岩 篤1,2、大久保 智3、堀川 清貴3、川原田 洋1,2,3,4 (1.早大ナノ・ライフ、2.名大未来研、3.早大理工、4.早大材研)
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09:45 〜 10:00
〇大田 晃生1、牧原 克典1、生田目 俊秀2、塩﨑 宏司1、宮﨑 誠一1 (1.名大、2.物材機構)
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10:00 〜 10:15
〇上沼 睦典1、安藤 領汰1、古川 暢昭1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
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10:15 〜 10:30
〇山田 高寛1、和田 悠平1、寺島 大貴1、野崎 幹人1、上野 勝典2、高島 信也2、山田 永3、高橋 言緒3、清水 三聡3、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.大阪大学、2.富士電機、3.産総研)
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10:30 〜 10:45
〇田岡 紀之1、グェン フウ チュン1、山田 永1、高橋 言緒1、清水 三聡1,2 (1.産総研-名大GaN-OIL、2.名大 IMaSS)
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10:45 〜 11:00
〇(D)長川 健太1、白石 賢二2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)
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11:15 〜 11:30
〇(M1)青島 慶人1、金木 奨太2、堀田 昌宏1,3、須田 淳1,3、橋詰 保2 (1.名大院工、2.北大量エレ研、3.名大未来研)
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11:30 〜 11:45
〇(M1C)河端 晋作1、アスバル ジョエル1、徳田 博邦1、山本 暠勇1、葛原 正明1 (1.福井大院工)
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11:45 〜 12:00
〇村瀬 亮介1、前田 拓也2、鐘ヶ江 一孝2、堀田 昌宏1,2,3、須田 淳1,2,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来材料・システム研究所)
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12:00 〜 12:15
〇鐘ヶ江 一孝1、藤倉 序章2、乙木 洋平2、今野 泰一郎2、吉田 丈洋2、堀田 昌宏1,3,4、木本 恒暢1、須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.SCIOCS、3.名大未来材料・システム研究所、4.名大院工)
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12:15 〜 12:30
〇(B)六野 祥平1、坂尾 佳祐2、堀田 昌宏2,3、須田 淳2,3 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研)
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