2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[10a-M114-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:00 M114 (H114)

野口 隆(琉球大)、東 清一郎(広島大)

09:15 〜 09:30

[10a-M114-2] 高品質n型多結晶Ge膜の合成に向けたSb添加固相成長

斎藤 聖也1、高原 大地1、今城 利文1、茂藤 健太1、末益 崇1、都甲 薫1 (1.筑波大院 数理物質)

キーワード:ゲルマニウム、固相成長、低温形成