The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 Plasma nanotechnology

[10a-W241-1~7] 8.3 Plasma nanotechnology

Sun. Mar 10, 2019 9:00 AM - 10:45 AM W241 (W241)

Yasunori Tanaka(Kanazawa Univ.)

9:00 AM - 9:15 AM

[10a-W241-1] Low Damage Radical Nitridation of Gold Nanoparticle Catalyst Coated Silicon

Machiko Miyake1, Honda Kohei1, Kitajima Takeshi1, Nakano Toshiki1 (1.N.D.A.)

Keywords:Nanoparticle, plasmon

金ナノ粒子の触媒効果発現が近年注目されている。本研究では金ナノ粒子の触媒性をプラズマ表面反応へ応用し、イオン衝撃によるプラズマ照射表面へのダメージの低減と良質な極薄膜形成への活用を図ってきた。今回はイオン照射、プラズマからの光照射及び金ナノ粒子触媒の有無をそれぞれ比較し、ラジカル窒化を行うのに最良な条件を調べた。