[10p-M103-1~7] Carbon related materials and plasma processing; state of the art and subjects

△ [10p-M103-6] In-situ transmission electron microscopy observation of layer-by-layer etching of graphene under remote oxygen plasma irradiation

〇Hirotsugu Sugiura¹, Hiroki Kondo¹, Kimitaka Higuchi², Shigeo Arai², Takayoshi Tsutsumi¹, Kenji Ishikawa¹, Masaru Hori³ (1.Nagoya Univ., 2.Nagoya Univ. IMaSS, 3.Nagoya Univ. Inst. of Innovation for Future Society)

Keywords:Graphene, Etching, In-situ Transmission Electron Microscopy

グラフェンはその層数によって特異的な光学的透過率、キャリア移動度などの特徴を示す。したがって、グラフェンの層数制御はグラフェンのデバイス作成のために重要な課題である。層数制御方法として酸素プラズマエッチングが報告されているが、そのエッチング機構は未だ明らかとなっていない。精密な層数制御のためには、エッチング機構の解明が必要である。そこで本報告ではエッチング機構の解明に向け、透過電子顕微鏡(TEM)内でプラズマ照射を行うことが可能なサンプルホルダーを独自に開発し、リモート酸素プラズマ照射によるグラフェンのlayer-by-layerエッチングのその場TEM観察を行った。