[10p-PA8-1~39] 17 Nanocarbon Technology (Poster)

[10p-PA8-14] Graphite Deposition on Silicon-based Material by HF-CVD

〇Mizuki Hashizume¹, So Takatsuna¹, Maki Shimizu¹, Hiroki Kato², Iwao hashimoto¹, Yoshikazu homma¹ (1.Tokyo Univ. of science, 2.JEOL)

Keywords:Graphene, HF-CVD

負極にシリコン系材料を用いた新しいリチウムイオンバッテリーの研究が行われており、シリコン系材料の欠点を補うためにグラファイト状カーボン膜でシリコン電極を覆うことが注目されている。本研究では、ホットフィラメント化学気相成長法を用いてシリコン酸化基板上へグラファイト状の炭素膜を無触媒で堆積させることを検討した。基板の温度が低いほどG/D比が大きい炭素膜が堆積していた。