The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[10p-W323-1~16] 6.4 Thin films and New materials

Sun. Mar 10, 2019 1:45 PM - 6:15 PM W323 (W323)

Hiroaki Nishikawa(Kindai Univ.), Akira Ohtomo(Tokyo Tech)

4:00 PM - 4:15 PM

[10p-W323-9] Pulsed-laser deposition of ZrH2 films: control of the hydrogen nonstoichiometry

Akito Nishi1, Kohei Yoshimatsu1, Akira Ohtomo1,2 (1.Tokyo Tech., 2.MCES)

Keywords:zirconium hydride, PLD, Hydrogen nonstoichiometry

金属水素化物は,高温超伝導体やヒドリド伝導体の発見を契機に近年注目されている.しかしながら,物性研究はこれまでバルク大が主な対象であり,薄膜については合成条件の検討が必要である.これまで我々はパルスレーザ堆積法を用いた薄膜作製を報告してきた.本研究では,水素雰囲気下で定比組成のZrH2薄膜を作製することを目的とした.幅広い水素不定比と非平衡条件下の水素組成の制御について明らかにしたので報告する.