2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[10p-W541-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月10日(日) 13:30 〜 19:00 W541 (W541)

岩谷 素顕(名城大)、本田 善央(名大)、新田 州吾(名大)

14:00 〜 14:15

[10p-W541-3] 組成傾斜p-AlGaNを用いた紫外発光素子への高電流注入

〇(D)佐藤 恒輔1,2、安江 信次2、荻野 雄矢2、岩谷 素顕2、竹内 哲也2、上山 智2、赤﨑 勇2,3 (1.旭化成、2.名城大、3.名古屋大)

キーワード:窒化物、紫外、レーザ

UVB領域の紫外レーザダイオード実現に向けて、20 kA/cm2の電流密度に相当する電流を流し、その発光特性を評価した結果を報告する。p型半導体に平均Al組成55%の組成傾斜p-AlGaNを用いることで、光閉じ込めとキャリア注入を両立する構造を設計した。素子端面に共振器を形成し、電流注入によるレーザ発振を検討した結果も報告する。