2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[10p-W934-1~12] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2019年3月10日(日) 13:30 〜 16:45 W934 (W934)

嵯峨 幸一郎(ソニー)、森 伸也(阪大)

13:45 〜 14:00

[10p-W934-2] パルス光伝導法を用いた非接触マルチ測定手法の開発

葛川 翔太郎1、松山 浩輝1、阿部 成海1、熊谷 祐希1、島津 裕一郎1、永友 航太郎2、中村 駿佑2、中山 雄介2、小林 一博1、久保田 弘1、橋新 剛1、吉岡 昌雄2 (1.熊大院自、2.熊大工)

キーワード:評価、絶縁膜、伝導

ゲート絶縁膜の薄膜化はリーク電流増大等の物理的・技術的課題を招く結果となっている。微細化は今後もなお継続予想となっており、信頼性的な観点も含めた評価技術が重要となる。我々は、絶縁膜の評価法としてパルス光伝導法(PPCM)を提案している。PPCMは、絶縁膜の誘電分極特性を計測し、電気伝導率を算出する手法である。本講演ではパルス光伝導法を応用した非接触によるマルチ測定手法を提案する。