[11a-PA2-1~17] 3.2 材料・機器光学

[11a-PA2-4] パルス幅可変・KrFランプの開発

〇(M2)吉田 大海¹、宇野 和行¹、實野 孝久² (1.山梨大工、2.阪大レーザー研)

キーワード：KrFランプ、軸方向放電励起方式、低ガス圧放電

我々は，小型でシンプルなKrFレーザーの開発を行っている．本研究では，軸方向放電励起方式による低ガス圧（6－100 kPa）におけるKrFの放電・発光特性が調査された．本研究では，4種類の放電管と4種類の励起回路，16種類の混合ガスに依存した発光パルスと発光スペクトル，電圧が測定された．その結果，パルス幅10 nsから400 nsとスペクトル幅2.5 nmから10 nmの制御が可能なKrFランプが開発された．