[11a-PA5-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[11a-PA5-2] 低ガス圧力運転を可能にする磁気ミラー型マグネトロンスパッタリングカソード

〇川戸 勇人¹、本村 大成²、梶原 みなみ¹、田原 竜夫²、上原 雅人²、奥山 哲也¹ (1.久留米高専、2.産総研)

キーワード：マグネトロンスパッタリング、プラズマスパッタリング

プラズマスパッタリングは、半導体産業をはじめとして広く応用されている。その中でもマグネトロンカソードは、さらに高速成膜に有用であるとして一般的に用いられている。先行研究で開発された磁気ミラー型マグネトロンカソードは、マグネトロン放電特有のドーナツ型放電領域をターゲット中心近傍まで伸長させ、ターゲット使用効率を改善し、低パワー密度の直流放電を可能にする。発表では、本カソードの放電特性について述べる。