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[11a-PA5-6] 室温原子層堆積法の開発とガスバリア応用
キーワード:室温原子層堆積、ガスバリア
我々はこれまでプラズマ励起法よって生成される水蒸気ラジカルを活用して室温原子層堆積法を開発してきた。本法は室温でのプロセスを特徴とし、高エネルギーイオンを活用しない表面励起法を用いるため、製膜表面へのダメージが少なく、有機エレクトロニクス、フレキシブルエレクトロニクスに好適である。本講演では、室温原子層堆積法の概要と製膜事例について述べるともに、ガスバリアへの適用事例について紹介する。