2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[11a-W541-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月11日(月) 09:00 〜 12:15 W541 (W541)

石井 良太(京大)、舘林 潤(阪大)

11:45 〜 12:00

[11a-W541-11] 高濃度SiドープGaNの深さ方向結晶性の赤外およびラマン分光評価

〇(M2)湯 明川1、馬 ベイ1、森田 健1、上野 耕平2、小林 篤2、藤岡 洋2、石谷 善博1 (1.千葉大院工、2.東大生研)

キーワード:GaN