2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[11p-70A-1~17] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2019年3月11日(月) 13:00 〜 17:30 70A (創立70周年記念講堂)

村田 晃一(電中研)、古庄 智明(三菱電機)

15:15 〜 15:30

[11p-70A-9] 4H-SiC ウェハの表面ラフネス周辺におけるライフタイムマッピング

長屋 圭祐1、平山 貴史1、加藤 正史1 (1.名工大)

キーワード:ライフタイム、SiC

高耐圧素子向けの 4H-SiC のデバイス製造歩留まりの向上にむけて、高い空間分解能を有するウ ェハ結晶品質評価は重要である。本研究室では、高い空間分解能での評価が可能である自由キャ リア吸収(FCA)法を用い、ライフタイム測定を行っている。そして、デバイスの局所的欠陥の 解析のために、4H-SiC ウェハ表面におけるライフタイムの二次元マッピングを試みた。