[11p-M136-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[11p-M136-13] CVD法を用いたGeO₂/Ge構造の作製と評価

〇勝野 泰幸¹、佐藤 亜武¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.農工大学院工)

キーワード：半導体